特种气体分类：高纯气体通常指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯 度的气体，对于不同类别的气体，纯度指标不同，大多用于超大规模集成电路及分离器 件、光电子等高科技领域；特种气体在太阳能电池中的应用：晶体硅电池片生产中的扩散工艺用 到 POCl3 和 O2，减反射层 PECVD 工艺用到 SiH4、NH3，刻蚀工艺用到 CF4；20 世纪 80 年代，电子产 业的兴起推动特种气体的需求提高，随着气体供应商供气模式的引入，国内 企业原有的气体车间、气体厂和供气站等纷纷发展为独立的气体公司，国内特种气体市 场逐步发展起来。
特种气体在集成电路领域的应用：特种气体是半导体材料制造过程不可缺少的基硅性支撑材料，处于半导体产业链的 上游，被称为半导体的“源”，主要应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。特种气体分类：标准气体严格意义上应称为标准校正气体，是一种高度均匀， 稳定性良好和量值准确的气体，可分为单元标准气体和多元标准气体，目前标准气基本 满足了我国石油、化工、环保、传感器校核等诸多领域的需求，特种气体在太阳能电池中的应用：非晶硅太阳能 电池在 LPCVD 沉积 TCO 工序用到 DEZn、B2H6；非晶/微晶硅沉积工序用到 SiH4、PH3/H2、 TMB/H2、CH4、NF3 等。
特种气体指半导体生产环节中，比如延伸、离子注进、掺和、洗涤、 遮掩膜形成过程中使用到一些化学气体，也就是气体类别中的电子气体，特种气体分类：电子气体是指用于半 导体及其它电子产品生产的气体，目前，我国电子气体品种基本齐全，但数量和质量与 发达国家相比，尚有较大差距；特种气体在太阳能电池中的应用：晶体硅电池片生产中的扩散工艺用 到 POCl3 和 O2，减反射层 PECVD 工艺用到 SiH4、NH3，刻蚀工艺用到 CF4；
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